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产品简介
大面积CVD石墨烯生长设备
设备尺寸 | Φ300*2800mm |
炉管尺寸 | Φ300*3000mm |
**进料量 | 20Kg |
加热元件 | 进口KTL电阻丝 |
加热区数量 | 3-8区(可根据需求定制) |
**温度 | 室温至1200℃，连续可调 |
控温方式 | 人机界面加PLC控制，10寸液晶屏控制，数字工控仪表双控，采用工业智能控温仪表和软件实现双控，采用模糊型PID控制 |
无纸记录 | 内置存储记录运行工艺数据，外接USB接口，可以电脑连接一键拷贝数据 |
结构描述 | ①设备可电动对半开启，自动控制冷却降温系统.实现可控冷却速度. ②在进料端配备2路高精度质量流量计系统，准确控制气体流量，可以实现生产工艺拓展和调整。 ③系统采用自动化工艺流程，设定好工艺一键操作。降低人为因素，工艺可靠性可以达到99.9%； ④机械泵系统：1pa,另外配备微调系统，确保可以在稳定负压下生长石墨烯；可实现日产20万平方厘米石墨烯薄膜 |
腔体 | 采用内控温和外控温相互切换，防止石英折射和散射造成的温场不均匀现象 |
供气系统 | 三路质量流量计 |
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